荷限制部分DUV出口
【本報訊】據觀察者網三十日消息：六月三十日晚間，荷蘭光刻機巨頭（阿斯麥公司）ASML在一份聲明中稱，荷蘭政府當天頒佈了有關半導體設備出口管制的新條例。這些新的出口管制條例針對物件為先進的芯片製造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統，並非部分媒體報道的所有浸潤式DUV光刻系統。
ASML表示，根據新出口管制條例規定，該公司需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發運最先進的浸潤式DUV系統（即TWINSCAN NXT：2000i及後續推出的浸潤式光刻系統）。荷蘭政府將決定是否授予或拒發出口許可證，並將向ASML提供許可證所附條件的細節。
ASML在聲明中重點指出，荷蘭政府新頒佈的出口管制條例只涉及TWINSCAN NXT：2000i及後續推出的浸潤式光刻系統（DUV，深紫外光刻）。而該公司的EUV光刻（極紫外光刻）系統在此前已經受到限制，其他系統的發運暫未受荷蘭政府管控。
“ASML將繼續遵守適用的出口管制條例，其中包括荷蘭、歐盟及美國的出口管制條例。”
這家光刻機巨頭稱，荷蘭政府新頒佈的出口管制條例將於二○二三年九月一日生效，在此日期前，ASML可開始提交出口許可證申請，荷蘭政府將視具體情況批准或拒絕這些申請。
